六氟化硫具有良好的電氣絕緣性能及優異的滅弧性能。

三氟化硼在半導體器件制造工藝中用做離子注入源，可以改善半異體器件的性能。

四氟化碳：1.用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝。2.是目前微電子工業中用量較大的等離子蝕刻氣體3.用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術。

硅烷用于各種微電子薄膜制備, 包括單晶膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化硅、金屬硅化物等。